PIC研发工作流程中的高精度对准

随着器件架构日趋复杂、耦合公差不断缩小，光子集成电路（PIC）不断创新，对对准精度的要求也愈发严苛。 在研发环境中，测量保真度与工程进度取决于快速、可重复的多轴对准能力，而传统机械平台在纳米尺度下往往难以持续满足这类需求。 PI的NanoCube凭借6自由度压电陶瓷运动、纳米级精度与良好的动态性能，克服了上述限制，可满足新一代PIC测试与探测的需求。 NanoCube采用紧凑的并联运动技术方案、柔性铰链导向装置以及成熟的PICMA促动器技术，为台式实验、高级表征工作流程以及自动化光子探测系统树立了高精度对准新标准。