光束整形与偏转

光束整形与偏转可精密定制光束，满足半导体、显微成像等高技术应用的需求。 这些应用要求光学元件具有长期定位能力，并尽可能降低漂移。 PI小型线性平台采用双相惯性驱动技术，提供高推力、高分辨率的精密定位及长期稳定性，是严苛工业应用或显微任务的理想选择。 其紧凑结构尤其适用于空间受限场景，而易于堆叠的特性则可灵活配置多轴系统，满足复杂定位需求。 在半导体领域，光束整形与偏转技术在晶圆的质量控制环节尤为重要，例如套刻量测中的光阑精密定位。 在显微技术领域，它们可实现纳米量级的光路精确调控，为全内反射荧光(TIRF)和受激发射损耗(STED)等现代超分辨显微技术提供核心支撑。